International Standard
ISO 25164:2026
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
Reference number
ISO 25164:2026
Edition 1
2026-08
© ISO 2026

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2026)

ISO 25164:2026

Язык
Формат
CHF 44
* Pасходы на перевозку должны оплачиваться
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.

This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2026-08
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107/SC 9
    ICS :
    25.220.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Интернет-магазин
  4. МКС
  5. 25
  6. 25.220
  7. 25.220.40
  8. ISO 25164:2026