недоступно на русском языке

Тезис Предпросмотр

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2015-12
  • Версия : 2
  • :
    ISO/TC 201/SC 4
    Depth profiling
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития:

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF
Бумажный
  • CHF88

Жизненный цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

  • Ранее
    ISO 14606:2000
  • Сейчас на стадии пересмотра
    ISO 14606:2015

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.