недоступно на русском языке

Тезис Предпросмотр

This document specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy (AES) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measure the ion current; the other involves imaging methods. The Faraday cup method also specifies the measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size less than or equal to 1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2020-10
  • Версия : 2
  • :
    ISO/TC 201/SC 4
    Depth profiling
  • 71.040.40
    Chemical analysis

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития:

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF118

Жизненный цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.