недоступно на русском языке

Тезис Предпросмотр

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.


Общая информация

  • Текущий статус :  Published
    Дата публикации : 2019-06
  • Версия : 1
    Число страниц : 4
  • :
    ISO/TC 206
    Fine ceramics
  • 81.060.30
    Advanced ceramics

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF38

Жизненны цикл

Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет



Изменения / Исправления

  • Сейчас
    ISO 21859:2019

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах