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Résumé Preview

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Informations générales

  • État actuel :  Publiée
    Date de publication : 2015-12
  • Edition : 2
  • Comité technique
    :
    ISO/TC 201/SC 4
    Profilage d'épaisseur
  • ICS :
    71.040.40
    Méthodes d'analyse chimique

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue à l'Objectif de développement durable suivant :

9
Industrie, innovation et infrastructure

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PDF
Papier
  • CHF88

Cycle de vie

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Révision / Rectificatifs techniques

  • Précédemment
    ISO 14606:2000
  • Actuellement en cours d'examen
    ISO 14606:2015

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