Résumé 

ISO 16531:2013 specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measure the ion current; the other involves imaging methods. The Faraday cup method also specifies the measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size below ~1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.


Informations générales

  • État actuel :  Annulée
    Date de publication : 2013-06
  • Edition : 1
  • Comité technique
    :
    ISO/TC 201/SC 4
    Profilage d'épaisseur
  • ICS :
    71.040.40
    Méthodes d'analyse chimique

Cycle de vie

Les normes ISO sont réexaminées tous les cinq ans



Révision / Rectificatifs techniques

Vous avez une question?

Consulter notre FAQ

Service à la clientèle
+41 22 749 08 88

Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Suivez l'actualité de l'ISO

Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.

  2. Store
  3. Catalogue de normes
  4. TC
  5. ISO/TC 201/SC 4
  6. ISO 16531:2013