Résumé Preview
This Technical Report gives guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. The methods
of sputtered depth measurement described in this Technical Report are applicable to techniques of surface
chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a
typical sputtered depth of up to severalmicrometres.
Informations générales
-
État actuel : PubliéeDate de publication : 2001-06
-
Edition : 1
-
- ICS :
-
Méthodes d'analyse chimique
Acheter cette norme
| Format | Langue | |
|---|---|---|
| Papier |
- CHF58
Cycle de vie
Les normes ISO sont réexaminées tous les cinq ans
Révision / Rectificatifs techniques
-
Actuellement en cours d'examen
ISO/TR 15969:2001 -
Sera remplacée par
ISO/PRF TR 15969
Vous avez une question?
Consulter notre FAQ
Service à la clientèle
+41 22 749 08 88
Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)
Suivez l'actualité de l'ISO
Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.