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Norme et/ou projet sous la responsabilité directe du ISO/TC 201/SC 4 Secrétariat Stade ICS
ISO 14606:2000
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur par bombardement — Optimisation à l'aide de systèmes mono- ou multicouches comme matériaux de référence
95.99
ISO 14606:2015
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur par bombardement — Optimisation à l'aide de systèmes mono- ou multicouches comme matériaux de référence
60.60
ISO/TR 15969:2001
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Mesurage de l'épaisseur bombardée
90.93
ISO 16531:2013
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Méthodes d'alignement du faisceau d'ions et la mesure associée de densité de courant ou de courant pour le profilage d'épaisseur en AES et XPS
90.92
ISO/DIS 16531
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Méthodes d'alignement du faisceau d'ions et la mesure associée de densité de courant ou de courant pour le profilage d'épaisseur en AES et XPS
40.00
ISO 17109:2015
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Méthode pour la détermination de la vitesse de pulvérisation lors du profilage d'épaisseur par pulvérisation en spectroscopie de photoélectrons par rayons X, spectroscopie d'électrons Auger et spectrométrie de masse des ions secondaires à l'aide de films minces multicouches
60.60
ISO/TR 22335:2007
Analyse chimique des surfaces — Profilage en profondeur — Mesurage de la vitesse de pulvérisation: méthode par empreinte de grille au moyen d'un profilomètre à stylet mécanique
90.93

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